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                  產品展示 / products 您的位置:網站首頁 > 產品展示 > 清洗系列 > 等離子清洗機
                  • PCE-6V 小型等離子清洗機
                    PCE-6V 小型等離子清洗機

                    PCE-6V 小型等離子清洗機集成了RF等離子體發生技術、計算機控制技術、軟件編程技術,采用氣體作為清洗介質,有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵,清洗腔內的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,可短時間內*清洗掉有機污染物,清洗程度可達到分子級。另外,其樣品臺可選配加熱功能,可加負偏壓,用以實現離子蝕刻。此外,其可在特定條件下根據需要改變某些材料表面的性能。

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                  • PDC-36G 等離子清洗機
                    PDC-36G 等離子清洗機

                    PDC-36G 等離子清洗機是一種緊湊型、低成本的等離子清洗機。使用空氣、氧氣、氬氣等離子去除納米級有機物污染。在射頻電源的作用下,去除速率大每分鐘10納米。在單晶材料外延薄膜生長以前進行預處理,對生長具有顯著的作用 。

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                  • PCE-80 8.5英寸等離子清洗機
                    PCE-80 8.5英寸等離子清洗機

                    PCE-80 8.5英寸等離子清洗機是一款較大型的等離子清洗機,等離子腔體為 8.5 “dia x 12““L的石英腔體,采用的射頻電源功率0 - 100W連續可調節。此款設備主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物,同時也可改變物體表面的性質(如親水和疏水性等)。對于基片的清洗以及薄膜處理此款設備是較為理想的實驗幫手。

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                  • PCE-500W 500W等離子刻蝕清洗機
                    PCE-500W 500W等離子刻蝕清洗機

                    PCE-500W 500W等離子刻蝕清洗機是一款較大型的500W等離子刻蝕清洗機,等離子腔體為 8.5 “dia x 14.4“L的石英腔體,采用的射頻電源頻率為13.56MH,功率0 -500W連續可調節。此款設備功率高,可用于等離子刻蝕、等離子灰化、表面改性以及材料摻雜改性等應用,對于基片的清洗以及薄膜處理此款設備是較為理想的實驗幫手。

                    更新時間:2023-11-06型號:瀏覽量:1065
                  • GSL-1100X-PJF 等離子表面處理儀
                    GSL-1100X-PJF 等離子表面處理儀

                    GSL-1100X-PJF 等離子表面處理儀是一款緊湊的大氣離子表面處理噴射系統,主要由射頻發生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒有真空條件下,迅速活化和清理材料表面。例如單晶片、光學元件、塑料等廣泛的材料。 為了獲得高質量的外延薄膜或者光學涂層,預*行表面處理可以得到顯著的效果。

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